米的等腰梯形晶体之中，这是一个可以说是非常非常非常精密的系统了，重要的“非常”要说三遍。
光刻机的原理很简单，其实跟单反差不多，可以说是一个放大版的单反，将光罩上设计好的集成电路图形通过镜头模组控制光线曝光，印到光感材料上形成图形，但是精度嘛，却是以纳米为单位的，难度大家也知道了。
特别是极紫外光刻机的工作精度，按照陈意前世一种很接地气的比喻就是：两架超音速飞机在天空中以同一速度高速飞行并，且靠的非常近，此时需要站在中一架飞机的机翼上，用刀片在另一架飞机机翼上的一粒米表面雕刻出一副漂亮的风景画。
当然陈意还没有那么牛逼，现在就能把极紫外光刻机给整出来。
前世蓝星芯片行业的巨头们发现193nm的深紫外光的制程将要达到极限，所以转而把目光放到了波长超短的极紫外光上了。
97年极紫外光刻机就开始研发了，米国牵头集合了几十个国家的力量一起搞了差不多二十年，17年第一件样品才正式出世，这其中的难度大家可以去想象。
极紫外光刻机，主要由极紫外光源、反射投影系统、光刻模板和对极紫外光敏感的光刻胶四个部分构成。
可是无论那个部分传统的光刻机制造工艺都没有太大的用武之地，所以还得重新设计研发。
而陈意现在只不过是靠着开挂加先知在光源系统上有了突破，并将反射投影系统的研发进程推进了一大步，这段时间陈意的技能栏中物理技能下又多了一个子项：光学。
陈意所做的呢，只不过是简化了多个透镜与棱镜所组成的复
第六百一十四章 蜂巢式立体镜片组(2/5)